有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

Veeco 提供一系列領先業界的 GaN 和 As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統,均能提高最大生產量同時又能降低擁有成本,運用於各種應用層面,包括顯示器、3D 感應、LiDAR、微 LED 顯示器和光學資料通訊。

有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

Veeco 提供一系列領先業界的 GaN 和 As/P 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統,均能提高最大生產量同時又能降低擁有成本,運用於各種應用層面,包括顯示器、3D 感應、LiDAR、微 LED 顯示器和光學資料通訊。

TurboDisc 反應器:卓越的有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 技術核心

Lumina 有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 平台結合專有 TurboDisc® 反應器技術,提供卓越的薄膜均勻性、產量和裝置效能……
顯示全文
單晶圓反應技術可為電力、5G RF 和光子學應用提供高效率、高品質的 GaN 裝置,Veeco 的 Propel™ HVM⋯⋯
顯示全文
全自動、單晶圓叢集系統可在 300mm 基材上進行 5G RF、光子學和先進 CMOS 裝置的生產。此⋯⋯
顯示全文
Veeco’s EPIK 868 MOCVD system is the LED industry highest productivity MOCVD system that reduces cost per wafer approximately…
顯示全文
Propel™ 是用於研發和小批生產的高度靈活、以 GaN 為基礎的系統,是設計用來加速製程開發⋯⋯
顯示全文