離子束系統及離子源

Veeco 無可比擬的離子束技能提供成熟的蝕刻和鍍膜效能,實現數十年來的資料儲存裝置和 MEMS 市場。

離子束系統

Veeco 無可比擬的離子束技能提供成熟的蝕刻和鍍膜效能,實現數十年來的資料儲存裝置和 MEMS 市場。

濺鍍系統

當材料成為最重要的元素時,可以借助離子束鍍膜 (IBD) 系統的最佳均勻性及可重複性,創造超精密、高純度的薄膜層設備。

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沉積系統

借助離子束鍍膜 (IBD) 系統的最佳均勻性及可重複性,創造超精密、高純度的薄膜層設備。

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蝕刻系統

憑藉 NEXUS® 離子束蝕刻 (IBE) 系統實現精密、複雜的蝕刻功能,達到離散微電子裝置及元件的高產量生產。

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離子源

Veeco 可為廣泛的應用提供最全面的離子束來源系列,包括業界唯一的線性柵格 (Linear gridded) 來源。

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類鑽碳

客戶的微電子技術、醫療設備和汽車組件需要類鑽碳薄膜才能達到的熱阻和熱阻率,此類薄膜經由我們的沉積系統打造而成。

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