有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

Veeco 擁有一系列業界領先的有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 設備,均能夠提高最大生產量,並同時又能降低擁有成本。

LED 生產專用的 TurboDisc EPIK 868 MOCVD 系統

EPIK 868 MOCVD系統讓每片晶圓能省下多達 20% 的成本,且結合了最佳操作運行時間、低維護成本、同級最佳晶圓均勻性,以及比競爭系統的足跡效率多上 1.6 倍的各種優勢。

LED 生產專用的 TurboDisc EPIK 700 GaN MOCVD 系統

每片晶圓的成本之所以能夠降低最高達 20%,正是因為採用 Veeco 獲獎的 EPIK® 700 MOCVD 系統,堪稱 LED 業界生產效率最高的 MOCVD 系統。

TurboDisc K475i As/P MOCVD 系統

TurboDisc K475i As/P MOCVD 系統,是業界具備最高生產效率與最低擁有成本的 MOCVD 系統,可生產大量的 LED。

電力電子專用的 Propel Power GaN MOCVD 系統

Veeco 全新開發的 Propel™ Power GaN MOCVD 系統,搭載單晶圓反應器技術,能夠生產以 GaN 為基礎的高效率電力裝置。