離子束蝕刻

離子束蝕刻

憑藉 NEXUS® 離子束蝕刻 (IBE) 系統實現精密、複雜的蝕刻功能,達到離散微電子裝置及元件的高產量生產。

NEXUS IBE-420i 離子束蝕刻系統

利用 NEXUS® IBE-420i™ 離子束蝕刻系統,提高資料儲存裝置產量,實現卓越均勻性。

NEXUS IBE-420Si 離子束蝕刻系統

利用 NEXUS® IBE-420Si™ 離子束蝕刻系統,最大限度地提高滑塊產量,實現不同凡響的離子束蝕刻均勻性。

NEXUS IBE-350Se 離子束蝕刻系統

利用 Veeco 的 NEXUS® IBE-350Se™ 離子束蝕刻系統,可最大限度地提高空氣軸承表面 (ABS) 深模槽加工及高蝕刻速率應用的生產效率。

NEXUS IBE-350Si 離子束蝕刻系統

Veeco 的 NEXUS IBE─350Si 離子束蝕刻系統可改進製程控制,減少佔用空間,而且其設計可即時升級。