雷射處理系統

雷射處理系統

Veeco Ultratech LSA 201 環境控制雷射尖峰退火系統

Veeco Ultratech LSA 201 環境控制雷射尖峰退火系統

LSA201 環境控制雷射尖峰退火系統

Veeco 的 LSA201 雷射尖峰退火製程 (LSA) 系統與 LSA101 擁有相同的結構,但包含一個已獲專利的微腔體設計,實現掃描雷射系統中的全晶圓環境控制。微腔體的一無二之處在於其無須使用真空承載室。該系統能夠運行任何惰性氣體的混合物,包括形成氣體。LSA201 的目標應用為高 k 金屬閘閥接面啟用與鎳矽化物的形成。LSA201 適合用在低於 20nm 的製程,諸如環境控制扮演關鍵角色的介面工程與材料修改等。

主要功能

  • 長波長、布儒斯特角、p 偏振光以獲得最佳晶粒內均勻性
  • 閉迴路溫度反饋控制,可以維持緊密的溫度控制
  • 版面配置獨立設計,最適合用於處理刨床 與 FinFET 裝置
  • 局部應力場與靈活的停留時間,實現低應力處理並減少晶圓破損

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