有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

TurboDisc K475i As/P MOCVD 系統

TurboDisc K475i As/P MOCVD 系統

業界最高生產力 As/P MOCVD 系統,可提供同類最佳產量

Veeco 全新的 TurboDisc K475i As/P MOCVD 系統是業界最佳的反應器,可生產紅色、橘色、黃色 (R/O/Y) LED,以及多接面 III-V 太陽能電池、雷射二極體和電晶體。K475i 系統採用結合 Veeco Uniform FlowFlange™ 技術的全新反應器設計,可生產具有極高均勻性及改良的晶圓內與晶圓間可重複性的薄膜,粒子的產生為業界最低。Uniform FlowFlange 技術的簡單設計可輕鬆進行調諧,實現快速製程最佳化及維護後的快速工具復原時間,為應用提供最高生產效率,例如照明、太陽能、雷射二極體、擬晶性高電子移動率電晶體 (pHEMT) 以及異質接面雙極電晶體 (HBT)。

  • 新的 Uniform FlowFlange 技術可提供同類最佳的均勻性與製程可重複性,可帶動更高的產量
  • 堅固耐用的反應器設計可提供使用簡單與維修後快速復原等特性,以獲得最大運行時間
  • 得利於完全自動化的業界最高生產效率
  • 久經生產證實的平臺可提供最低擁有成本

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