有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

Propel enLight GaN 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統

Propel enLight GaN 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統

單晶圓系統能讓先進照明裝置達到高產量

Veeco 全新 Propel® enLight™ GaN 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統是專為高產量、高效能的寬頻超發光二極體產業所設計。此系統採用單晶圓反應器平台,能夠處理 8 英吋與 12 英吋晶圓,enLight 系統可鍍出高品質的 GaN 薄膜,足以應付高效率電力電子裝置的生產。

叢集化平台加速 GaN 進階發光二極體的普及 

  • 無與倫比的效能 
  • 卓越的生產力 
  • 同級最佳靈活性
  • 最低擁有成本

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