有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

有機金屬化學氣相沉積 (MOCVD) 系統

Propel emPower GaN 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統

Propel emPower GaN 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統

單晶圓系統能讓省電的 GaN 電力和 RF 裝置達到高產量

Veeco emPower 優勢

Veeco 全新 Propel® emPower™ GaN 有機金屬化學氣相沉積法 (MOCVD) 系統是專為高產量的電力電子產業所設計。此系統採用單晶圓反應器平台,能夠處理 8 英吋與 12 英吋晶圓,emPower 系統可鍍出高品質的 GaN 薄膜,足以應付高效率電力電子裝置的生產。

  • 無與倫比的效能 
  • 卓越的生產力 
  • 同級最佳靈活性
  • 最低擁有成本

 

 

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