表面精密處理系統

表面精密處理系統

光阻劑與乾膜光阻剝除 - WaferStorm 平台

光阻劑與乾膜光阻剝除 - WaferStorm 平台

專有 ImmJET 晶圓製程技術

此溶劑型系統整合了加熱化學物質和專有的高壓浸泡和噴霧,可快速且徹底移除頑固的厚膜光阻劑。浸泡步驟使用熱式溶劑並且加以攪動。在藉由浸泡軟化之後,晶圓即會送至單晶圓噴塗站以高壓扇進行熱溶劑噴塗,以迅速去除厚膜殘留物。此種組合確保徹底去除厚膜殘留物並提升生產量。

功能

 

  • 熱式、循環的溶劑浸沒槽
  • 最高達 3000 psi 的高壓噴塗功能
  • HPC 針式與 HPC 扇式噴塗模式
  • 流率監控系統
  • 低化學消耗
  • 三重過濾器過濾技術

 

應用

  • 晶圓級封裝技術
  • 2.5D 中介層
  • 3D 積體電路
  • MEMS
  • LED
  • VCSEL
  • RF 元件
  • 電力電子技術

 

聯絡資訊

我們的銷售團隊隨時能提供協助。