物理氣相沉積

物理氣相沉積

NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統

NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統

靈活的鍍膜平台適用於各類廣泛的應用

Veeco 的單靶 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統具有極大的靈活性,適用於各類廣泛的薄膜鍍膜應用。NEXUS PVDi 支援 200 公厘,具有進階製程能力、無與倫比的均勻性及多種鍍膜模式。

  • 無與倫比的可靠性及均勻性有助提升製程產量
  • 更低擁有成本即可獲得更高產量及更長運行時間
  • NEXUS 平台融合了極其廣泛的 Veeco 技術,比如離子束鍍膜、離子束蝕刻及原子層鍍膜

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