物理氣相沉積

物理氣相沉積

NEXUS PVD-1 物理氣相沉積系統

NEXUS PVD-1 物理氣相沉積系統

適用於各種應用的多功能、易於使用的工具

透過 Veeco's NEXUS PVD-1 單晶圓物理氣相沉積模組,獲取所需的簡單性、可靠性及優越性能。該系統與各類晶圓尺寸相容,可自訂以適用多種資料儲存應用,比如氧化物及氮化物鍍膜以及磁性材料應用。它還配有符合成本效益的高性能工具,適用於半導體、GaAs 及包裝應用。

  • 可輕鬆配置,達到具體製程及生產要求
  • 支援從 3 英寸至 8 英寸左右的晶圓尺寸
  • 標準附件包括陰極、晶圓吸附器、氣體歧管、快門及幫浦套件
  • 模組化功能可簡化對操作員及維護培訓的要求,同時降低零組件庫存要求
  • 其設計可快速、簡單地與 NEXUS 離子束蝕刻、離子束鍍膜及其他物理氣相沉積工具整合

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