類鑽碳

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NEXUS DLC-X 類鑽碳系統

NEXUS DLC-X 類鑽碳系統

超堅硬、耐腐蝕的 TFMH 塗層薄膜技術

透過 Veeco 的 NEXUS DLC-X 系統,鍍製稠密、均勻及可重複的薄膜類鑽碳 (DLC) 薄膜,使薄膜磁頭 (TFMH) 滑塊覆層及著陸架更加持久。Nexus DLC-X 具有業界首例值得投產的脈衝過濾型陰極電弧來源,可實現 SUB-20A 的覆層厚度,並支援改進後的步驟範圍,相比過往的生成方式,具有更佳製程產量。

  • 脈衝過濾型陰極電弧帶來的卓越均勻性、可重複性及薄膜硬度
  • 長距離、低壓 PVD 可提供稠密、無針孔的矽種晶層
  • 反應性 PVD 製程可用
  • 可調諧的低能量 NEXUS 420 離子束蝕刻來源,從低至 75 伏至 300 伏的束能量中實現穩定作業。
  • 傾斜的橢圓儀便於蝕刻及沉積端點控制

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