從業界成員轉變為業界領導者

1945

Vacuum Electronic Equipment Co., (Veeco) 成立時專門從事滲漏偵檢器設備。

1989

Veeco 的首席運營長 Edward H. Braun 與高階主管團隊主導管理階層收購,打造一間半導體和數據儲存產業的新設備公司。Braun 先生被任命為執行長。

1994

Veeco 在那斯達克 (NASDAQ) 股票市場完成首次公開發行。當時,Veeco 的銷售額大約為 30 百萬美元。

1999

Veeco 收購了 Ion Tech, Inc. 並進入光學鍍膜市場。

2001

Veeco 收購了 Applied EPI,也就是目前在明尼蘇達州聖保羅的分子束磊晶團隊。

2003

Veeco 收購了紐澤西州薩默塞特的 Emcore,為其在 LED 市場中領先的金屬有機化學氣相沉積系統的事業鋪路。

2007

John Peeler 被任命執行長並指導 Veeco 朝向加速產品開發、靈活運營策略和高成長市場邁進。

2008 – 2010

Veeco 正式推出多項顚覆業界的系統創新,包括 GEN10™ 與 GEN2000™ MBE 系統,以及 TurboDisc® K465i™ MOCVD 系統。Veeco 出售其量測業務,將重心集中放在製程設備上。

2011

Veeco 針對資料儲存推出 NEXUS® DLC-X™ 與 Optium® ADS-800™,另外推出 TurboDisc MaxBright™ 多反應器有機化學金屬氣相沉積 (MOCVD) 系統。Veeco成為有機化學金屬氣相沉積 (MOCVD) 系統的首要供應商,對製造 LED 至關重要。

2012

Veeco 推出用於高通量光學鍍膜應用的 SPECTOR-HT 離子束濺鍍系統。

2013

Veeco 推出 GENxplor™ R&D MBE 系統,是業界第一個完全整合的系統。

2014

Veeco 推出兩種機化學金屬氣相沉積 (MOCVD) 系統:加速固態照明採用的 TurboDisc EPIK700 GaN MOCVD 系統,和促進從研發轉向高效能氮化鎵電力電子元件之生產的 Propel™PowerGaN™GaN MOCVD系統。

Veeco 收購 Solid State Equipment LLC (SSEC) 以跨足高成長率市場,並將 SSEC 更名為 Veeco 表面精密處理 (PSP) 業務單位。

2015

Veeco 的第 50 部 EPIK 700 MOCVD 反應器推出不到一年時間,就獲得亞洲業界領先鑄造廠為其表面精密處理 (PSP) WaferStorm™ 系統採購此設備的多張訂單。

2016

Veeco 已使用 TurboDisc K475i™ As/P MOCVD 系統來生產紅色、橘色、黃色 (R/O/Y) LED,以及多接面 III-V 太陽能電池、雷射二極體和電晶體。

Veeco GENxplor MBE 系統擁有最大工具安裝基地的紀錄,超越全球研發大學之間的競爭。

Veeco 將其紐約(Plainview、Kingston 和 Poughkeepsie)的製造業務整合到新澤西州薩默塞特的一廠區,以提高運營效率並符合客戶需求。

2017

Veeco 收購了 Ultratech,Inc,其公認為先進封裝應用和 LED 微影產品的領導者,也是半導體元件生產的雷射尖峰退火技術的先驅。

2018

William J. Miller 博士被任命為執行長。Miller 博士先前擔任總裁並帶領 Veeco 全球業務單位與營運團隊的多個成長計畫